紫外臭氧清洗机SLT-UVO-2
一、产品简介
NJU-UVO-1 是我司根据钙钛矿小试线以及多数高校实际使用情况，经过优化改进生产的一款高效的紫外臭氧清洗设备，该设备小巧适用，外面类似微波炉大小节约空间，内部采用抽屉式设计并多级调整距离的方式设计便于放样品放入，广泛应用于科研院所、钙钛矿太阳能电池（FTO、ITO）、OPV、OLED、LCD、基片、硅片、金属片表面有机物清洗，即进行表面改质，从而获得较好的亲水性。
二.应用领域：
Ø 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯
Ø 钙钛矿太阳能电池的FTO、ITO基底。、OLED基底
Ø 进行薄膜沉积之前先进行基片清洗，清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封
Ø 平板显示器/液晶显示
Ø 增强GaAs 和Si氧化物钝化表
Ø 去除光刻机台上的光刻胶残留胶
Ø 增强表面亲水特
三.主要技术指标
殊格册状灯管（进口石英材料） ， 220W，寿命10000小时 | |
用电 | 220V |
工作光谱 | 185nm+254nm |
有效面积 | 8英寸 |
清洗洗时间控制 | 0-99.99小时或分钟 |
照射射高度 | 0-100mm，可通过托盘调节高度 |
灯管预热 | 灯管预热功能 |
排风功能 | 带抽风系统， 可调节风 |
四、工作原理及效果
4.1 工作原理
低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。 其基本原理为： 光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子与空气中的氧气分解出来的活性氧（ O）生成极性很强的原子团（OH， CHO， COOH）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂料、粘合剂、电镀材料相结合，形成新的化学键，从而使材料表面得到通常情况下得不到的很强的粘结强度，或者使材料得到稳定的表面性能。
工作原理表达式：
表面改性原理表达式：
4.2紫外光表面清洗和改质技术的先进性
4.2.1光清洗技术是随着当代光电子信息技术发展起来的，光电子产品的高性能、微型化要求表面洁净度越来越高，常规的清洗方法（如水洗、化学溶液洗、超声波清洗等）已不能满足要求，UV光清洗能够达到常规的清洗方法难以达到的高清洁度，而且不存在三废处理问题，有利于环境保护。
4.2.2光清洗是在常温、常压的环境中进行的，是一种非接触式的干法清洗技术。光清洗时被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，因为有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走，不可能重返被清洗的表面，不会像溶液清洗时发生二次污染。
4.2.3一般情况下，光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。
4.2.4光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。
4.2.5世界上先进工业化国家已经开始将光清洗技术由光电产品向金属、光学、塑料、橡胶等相关产品的生产过程发展，光清洗技术的应用范围十分广阔，具有很强的技术生命力。
3.3效果（AFM）
被污染的FTO
处理10min后
处理30min后
4.售后服务、安装调试、培训
售后服务 | 1）产品质保期为一年；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外） ，质保期内由于设备本身原因而引起的零配件的更换，其费用由我公司承担。 3) 本公司在接到故障通知 2 小时内给予解答；对于设备故障，公司在接到故障通知后苏州地区 12 小时内派技术人员到达现场处理，外阜地区 48 小时内到达现 |
安装调试 | 1）依据合同相关供货清单及技术指标进行检验验收。 7) 安装和调试期间如有费用发生，所发生的费用由供方承担。 |
培训 | 1) 供方派技术工程师对需方人员进行技术培训，使需方人员能掌握有关系统设备的使用、维护和管理，达到能独立进行操作、日常基本维护等工作的目的。 |
文档资料 | 1）设备相关的技术资料提供：文档语言为中文或英文。 5) 装箱单 |
5.交货期
交货期 | 签订合同后 14个工作日内。 |
联系方式
公司名称：昆山桑莱特新能源科技有限公司
公司地址：江苏省昆山市祖冲之南路1699号，邮编：215347
联系电话：0512-55119164
手 机：15151629989（王工）
